C4D粒子插件xparticles4.0,功能非常強(qiáng)大,為CINEMA 4D提供一個完善的粒子顯示系統(tǒng),使流體,布料等特效顯示更加逼真。xparticles4.0版本為粒子插件最新版,新增大量的模板素材,以滿足不同設(shè)計所需。本次放出xparticles4.0粒子插件付費版本下載,內(nèi)置了安裝說明,有相關(guān)c4d插件使用需求的朋友們不要錯過哦!
xparticles4.0主要功能
粒子系統(tǒng)
從太陽能系統(tǒng),F(xiàn)UI,全息圖和醫(yī)學(xué)可視化創(chuàng)建出色的ParticleFX到抽象藝術(shù)品。結(jié)合發(fā)射器和修改器的多個選項為您提供了廣泛的可能性。
煙,火和Flow
逼真的煙霧,火災(zāi)和爆炸性模擬。您可以將ExplosiaFX導(dǎo)出為VDB卷,然后可以讀取VDB數(shù)據(jù)的任何渲染引擎都可以呈現(xiàn)卷數(shù)據(jù)。
流體和粒子
流體和粒子溶解器使您能夠創(chuàng)建令人驚嘆的大型和小型流體模擬,從海灘到美麗的產(chǎn)品噴濺。
布料模擬
使用任何修改器驅(qū)動布料模擬,然后使用高級撕裂選項將其撕開。ClothFX為動作設(shè)計效果和破壞VFX鏡頭添加了全新的維度。
xparticles4.0演示視頻
xparticles4.0更新內(nèi)容
此版本包含以前在2018年9月的Early Access版本中提供的所有功能,以及一些其他新功能。
常規(guī)
修改了粒子核心和碰撞引擎,速度更快
使用INSYDIUM Bridge插件與Cinema 4D R20兼容
現(xiàn)在支持R20域,任何對象的“衰減”選項卡現(xiàn)在都顯示標(biāo)準(zhǔn)域顯示。X-Particles衰減位于各自面板的“域”列表中(僅適用于Cinema 4D R20)
用戶界面中增強(qiáng)的快速選項卡功能
發(fā)射
新發(fā)射器類型 - 圓環(huán)發(fā)射器
添加了發(fā)射器實例模式
現(xiàn)在可以為不同的約束類型設(shè)置顏色,并使用這些顏色從約束中渲染軌跡
新的擴(kuò)展數(shù)據(jù)項 - 發(fā)射頂點
通過著色器更改粒子顏色以提供正確的3D采樣
修改了發(fā)射器/組對象中的粒子顏色漸變
顯示新的修飾符域
沿對象法線添加新的變化控制
矩形模式下發(fā)射器的僅邊發(fā)射
發(fā)射器旋轉(zhuǎn)中的新向上矢量選項
新選項添加到發(fā)射器衰減
生成器
增強(qiáng)的功能和在OpenVDB網(wǎng)格中網(wǎng)格化卷的功能
Trail對象中的新選項用于處理Infectio路徑
創(chuàng)建添加到Fragmenter對象的頂點顏色標(biāo)記的選項(僅限Cinema 4D R18和更高版本)
xpElektrix中的新距離控件
動力學(xué)對象
FluidPBD和FluidFX中更快,更準(zhǔn)確的流體模擬
FluidFX得到了極大的改進(jìn),而且速度更快
添加了新Wave對象
改進(jìn)泡沫物體,以更好地控制泡沫從流體表面的偏移
ExplosiaFX添加了粒子組和衰減支持
FlowField對象中的修訂和增強(qiáng)的著色器模式
修飾符
新的Infectio修飾符
添加到Change Group和Spawn修飾符的更多繼承參數(shù)
添加到Attractor修改器的新目標(biāo)對象列表
Mograph Cloner / Matrix支持添加到Attractor修改器
新的力和速度設(shè)置添加到Attractor,Cover / Target,F(xiàn)lock,Rotator和Vortex修改器
改進(jìn)和擴(kuò)展的顏色修改器
現(xiàn)在,自定義數(shù)據(jù)可以映射到“自定義數(shù)據(jù)”修改器中的粒子數(shù)據(jù)
“幾何”修改器中的新閾值設(shè)置
添加到“Kill”修改器的新選項
新模式和新開關(guān)添加到Life修改器中
修改和擴(kuò)展的限制修飾符
“網(wǎng)絡(luò)”修改器中的新軸約束設(shè)置
三個新吸引子添加到Strange Attractors修改器中
新功能 - 跟蹤零長度的操作 - 添加到“跟蹤”修改器
權(quán)重修改器中的新操作模式
其他物件
Infectio修改器和VertexMap Maker中使用的新X-Particles種子對象
VertexMap Maker中的新模式 - “來自種子”
能夠在VertexMap Maker中添加頂點顏色標(biāo)記(僅限Cinema 4D R18及更高版本)
Z軸公式和位移著色器添加到Trail Deformer中
問題/行動
現(xiàn)在可以在發(fā)射器“問題”選項卡和所有對象的“操作”列表中禁用/啟用單個問題和操作
問題對象中的新流體數(shù)據(jù)問題
自生成功能已添加到Control Spawning操作中
添加了控制Infectio修飾符的新操作